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低溫恒溫槽的用途及常見故障
更新時間：2010-05-14 瀏覽次數：4136
低溫(wen)(wen)恒溫(wen)(wen)槽(cao)(cao)(cao)，又稱低溫(wen)(wen)恒溫(wen)(wen)浴(yu)槽(cao)(cao)(cao)，是自帶制冷(leng)和加(jia)熱(re)的***恒溫(wen)(wen)源，兼具(ju)小(xiao)型冷(leng)水(shui)機的功能。廣泛(fan)應用于石(shi)油、化工、冶(ye)金、醫藥、生(sheng)化、物性，測試及化學分析等研究部門、高(gao)等院校(xiao)、工廠實驗室及計量(liang)質(zhi)檢部門。根據槽(cao)(cao)(cao)開(kai)口尺寸的不同，可在浴(yu)槽(cao)(cao)(cao)內(nei)(nei)進行(xing)恒溫(wen)(wen)實驗，亦可通過軟(ruan)(ruan)管與(yu)其他設(she)備(bei)相連(lian)接(jie)，與(yu)恒溫(wen)(wen)源配套(tao)使用。內(nei)(nei)循(xun)環：通過泵對槽(cao)(cao)(cao)內(nei)(nei)液體介質(zhi)的循(xun)環吞吐，增(zeng)加(jia)槽(cao)(cao)(cao)內(nei)(nei)溫(wen)(wen)度(du)的均勻性，減(jian)少溫(wen)(wen)度(du)波動。外(wai)(wai)循(xun)環：通過泵的循(xun)環能力(li)，利用出水(shui)口將保溫(wen)(wen)軟(ruan)(ruan)管與(yu)外(wai)(wai)部設(she)備(bei)連(lian)接(jie)，形成封閉(bi)回(hui)(hui)路，流(liu)回(hui)(hui)設(she)備(bei)進水(shui)口，是將槽(cao)(cao)(cao)內(nei)(nei)恒溫(wen)(wen)介質(zhi)外(wai)(wai)引，建立外(wai)(wai)部恒溫(wen)(wen)場。循(xun)環水(shui)恒溫(wen)(wen)的應用領域：
生化領域(yu)：旋轉蒸發儀(yi)、阿貝(bei)折光(guang)儀(yi)、旋光(guang)儀(yi)、原(yuan)子吸收(shou)、ICP-MS 、ICP、核磁(ci)共(gong)振、CCD、生物發酵罐(guan)、化學反應器（合(he)成器）等。材料(liao)(liao)領域(yu)：電鏡、X射線(xian)衍射、X熒光(guang)、真空濺(jian)射電鍍、真空鍍膜機(ji)、ICP刻(ke)蝕、各(ge)種半導體設(she)(she)備、疲勞試驗(yan)機(ji)、化學沉積系統、原(yuan)子沉積系統等。醫療領域(yu)：超導磁(ci)共(gong)振、直(zhi)線(xian)加速器、CT、低(di)磁(ci)場核磁(ci)共(gong)振、X光(guang)機(ji)、微波治療機(ji)、醫用冷帽、降(jiang)溫毯等等。物化領域(yu)：激光(guang)器、磁(ci)場、各(ge)種分子泵、擴散泵、離(li)子泵以(yi)及包括(kuo)材料(liao)(liao)領域(yu)。使用的各(ge)種需水(shui)冷設(she)(she)備。
產品(pin)特點：
節約(yue)能源(yuan)——在夏季和(he)高(gao)環(huan)境溫度下，冷卻水可在系(xi)統回(hui)路中循環(huan)使用，節約(yue)大量的水資源(yuan)。
效率更(geng)高——一臺循環水設備可同時滿(man)足多(duo)臺外部設備的冷卻需求，持(chi)續提供低溫(wen)恒溫(wen)水源，適(shi)用于冷凝實(shi)驗。
控(kong)溫精度(du)——PID控(kong)溫技術，內置PT100傳(chuan)感器、控(kong)溫精度(du)高，溫度(du)數字顯示，操作直觀
安(an)全性高――具(ju)有自我診斷功能；冷(leng)凍機過載保護(hu)等(deng)多種安(an)全保障(zhang)功能。
低溫(wen)不凍(dong)液(ye)配比
A乙二醇水(shui)溶液：乙二醇/水(shui) 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水(shui)溶(rong)液(ye)(ye)：丙三醇/水(shui) 70/30 （－30℃）使用(yong)中需(xu)經常(chang)檢查(cha)低溫不(bu)(bu)凍(dong)液(ye)(ye)的(de)密度使其滿足如下要求(qiu)：1.乙(yi)二醇水(shui)溶(rong)液(ye)(ye)：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水(shui)溶(rong)液(ye)(ye)：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不(bu)(bu)凍(dong)液(ye)(ye)用(yong)水(shui)代替時，其zui低溫度必須在0℃以上。
冷(leng)(leng)卻(que)水(shui)選(xuan)型(xing)(xing)相關：通常，制(zhi)(zhi)冷(leng)(leng)能力在(zai)(zai)1000W以下(xia)機型(xing)(xing)小型(xing)(xing)循(xun)環(huan)水(shui)冷(leng)(leng)卻(que)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)器(qi)(qi)(qi)(qi)廣(guang)泛運用(yong)小功率激光(guang)器(qi)(qi)(qi)(qi)、平(ping)(ping)行蒸(zheng)發儀(yi)(yi)、平(ping)(ping)行定量濃縮儀(yi)(yi)、平(ping)(ping)行反應器(qi)(qi)(qi)(qi)、蒸(zheng)餾(liu)儀(yi)(yi)等(deng)實驗(yan)(yan)室(shi)冷(leng)(leng)凝裝置(zhi)等(deng)。制(zhi)(zhi)冷(leng)(leng)能力在(zai)(zai)6000W以下(xia)中型(xing)(xing)循(xun)環(huan)水(shui)冷(leng)(leng)卻(que)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)器(qi)(qi)(qi)(qi)廣(guang)泛應用(yong)于(yu)AAS、ICP、ICP-MS、電(dian)鏡等(deng)分(fen)析儀(yi)(yi)器(qi)(qi)(qi)(qi)行業，旋轉蒸(zheng)發儀(yi)(yi)、索(suo)氏提取、固液萃(cui)取儀(yi)(yi)、凱氏定氮儀(yi)(yi)等(deng)實驗(yan)(yan)室(shi)設(she)備，激光(guang)打標機、激光(guang)切(qie)割(ge)機等(deng)激光(guang)儀(yi)(yi)器(qi)(qi)(qi)(qi)及機床行業。制(zhi)(zhi)冷(leng)(leng)能力在(zai)(zai)10KW以上大型(xing)(xing)循(xun)環(huan)水(shui)冷(leng)(leng)卻(que)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)器(qi)(qi)(qi)(qi)廣(guang)泛應用(yong)于(yu)X－衍射儀(yi)(yi)、磁(ci)質(zhi)譜(pu)(pu)儀(yi)(yi)、疲(pi)勞試驗(yan)(yan)機、真空鍍(du)膜機、塑料成形設(she)備、激光(guang)切(qie)割(ge)機、X－熒光(guang)光(guang)譜(pu)(pu)儀(yi)(yi)、紅(hong)外光(guang)譜(pu)(pu)儀(yi)(yi)、差(cha)熱(re)分(fen)析儀(yi)(yi)、核磁(ci)共振等(deng)具有高制(zhi)(zhi)冷(leng)(leng)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)要求設(she)備。
應用范圍：
對半導體制造裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)置(zhi)(zhi)發熱(re)部的(de)冷卻(que)：單(dan)晶片(pian)(pian)洗凈轉載、印刷機(ji)、自動夾座安裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)置(zhi)(zhi)、噴涂裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)置(zhi)(zhi)、離子鍍(du)裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)置(zhi)(zhi)、蝕刻裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)置(zhi)(zhi)、單(dan)晶片(pian)(pian)處理(li)裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)置(zhi)(zhi)、切片(pian)(pian)機(ji)、包裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)機(ji)、顯影劑的(de)溫度(du)管理(li)、露光裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)置(zhi)(zhi)、生磁部分的(de)加熱(re)裝(zhuang)(zhuang)(zhuang)置(zhi)(zhi)等。
對激(ji)光(guang)裝置(zhi)發(fa)熱部分的冷(leng)卻：激(ji)光(guang)加(jia)工、熔接機的發(fa)熱部分、激(ji)光(guang)標志裝置(zhi)、發(fa)生(sheng)裝置(zhi)、二氧化(hua)碳(tan)激(ji)光(guang)加(jia)工機等。
其他產業用機(ji)器發熱(re)部分的(de)冷卻(que)：等離(li)子(zi)熔接、自(zi)動包裝機(ji)、模具冷卻(que)、洗凈機(ji)械(xie)、鍍(du)金(jin)槽、精密研(yan)磨機(ji)、射出成(cheng)型(xing)機(ji)、樹脂成(cheng)型(xing)機(ji)的(de)成(cheng)型(xing)部分等。
分(fen)(fen)析(xi)檢測機器的(de)(de)發熱(re)部(bu)(bu)分(fen)(fen)的(de)(de)冷(leng)卻： 電子顯微鏡的(de)(de)光源(yuan)、ICP發光分(fen)(fen)光分(fen)(fen)析(xi)裝置的(de)(de)光源(yuan)部(bu)(bu)分(fen)(fen)、分(fen)(fen)光光度計的(de)(de)發熱(re)部(bu)(bu)分(fen)(fen)、X線解析(xi)裝置的(de)(de)熱(re)源(yuan)、自動脈沖調幅(fu)器的(de)(de)發熱(re)部(bu)(bu)分(fen)(fen)原子吸(xi)光光度計的(de)(de)光源(yuan)等。水箱可用的(de)(de)純凈(jing)水在機內外(wai)循環(huan)冷(leng)卻，可保(bao)證對水質要(yao)求較高的(de)(de)精密儀(yi)器的(de)(de)正常運行(xing)，延長精密儀(yi)器的(de)(de)使(shi)用壽(shou)命。
常見問題解(jie)答(da)：
1、水循環使(shi)用了(le)一年多都(dou)很正常(chang)，可(ke)現在(zai)制冷速度好像越(yue)(yue)來越(yue)(yue)慢(man)了(le)，在(zai)氣溫越(yue)(yue)高時越(yue)(yue)明(ming)顯(xian)？
答：水(shui)(shui)循環使用很簡(jian)單，但(dan)是定期的(de)維護保養(yang)(yang)工作還是不(bu)能忽視的(de)。有(you)很多看似故障的(de)毛(mao)病其實就是沒(mei)有(you)定期做維護保養(yang)(yang)引(yin)起的(de)。水(shui)(shui)循環自身的(de)電功率(lv)和制冷(leng)劑(ji)從負載中(zhong)帶走的(de)熱(re)量(liang)(liang)都需(xu)要從前通風(feng)罩(zhao)處的(de)散(san)(san)熱(re)器(qi)中(zhong)排走，如果前通風(feng)罩(zhao)上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱(re)量(liang)(liang)的(de)散(san)(san)發(fa)，制冷(leng)效果將(jiang)大打折扣。一般來(lai)說在正常的(de)使用條件下制冷(leng)量(liang)(liang)下降都是因為通風(feng)散(san)(san)熱(re)效果太差或環境溫度太高引(yin)起的(de)。
2、水循環(huan)以前使(shi)用都很(hen)正(zheng)常(chang)，可現(xian)在發現(xian)噪音比以前大很(hen)多，這是什么原因？
答：前面(mian)(mian)提到過(guo)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)循(xun)環的(de)(de)(de)(de)(de)日常(chang)維護工作，這(zhe)(zhe)(zhe)(zhe)個問(wen)題也與(yu)之有(you)(you)(you)(you)(you)關。大家都知道(dao)，水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)里(li)(li)面(mian)(mian)有(you)(you)(you)(you)(you)很少部(bu)分的(de)(de)(de)(de)(de)雜質(zhi)(zhi)，就(jiu)是(shi)蒸餾水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)在加到水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)箱(xiang)后也不(bu)(bu)可(ke)能*保證(zheng)一(yi)(yi)點雜質(zhi)(zhi)都沒有(you)(you)(you)(you)(you)。對于水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)循(xun)環而(er)言，一(yi)(yi)般(ban)溫度(du)都設置在20℃，特別(bie)適應微生物的(de)(de)(de)(de)(de)生長(chang)和繁衍。時間長(chang)了(le)(le)以(yi)(yi)后這(zhe)(zhe)(zhe)(zhe)些(xie)微生物就(jiu)會(hui)堵塞水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)路(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)過(guo)濾器(qi)造成回(hui)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)不(bu)(bu)暢(chang)，水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)泵就(jiu)會(hui)有(you)(you)(you)(you)(you)較大的(de)(de)(de)(de)(de)噪音。有(you)(you)(you)(you)(you)時這(zhe)(zhe)(zhe)(zhe)些(xie)微生物附在了(le)(le)換熱(re)器(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)表(biao)面(mian)(mian)，造成換熱(re)器(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)傳(chuan)熱(re)效果變差，制(zhi)冷量變小。所(suo)以(yi)(yi)一(yi)(yi)定要(yao)嚴格按照說明書中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求做好(hao)日常(chang)維護工作，定時清洗內槽(cao)，長(chang)期停用(yong)(yong)，保持槽(cao)內干燥。水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)循(xun)環里(li)(li)面(mian)(mian)好(hao)像有(you)(you)(you)(you)(you)漏(lou)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)，有(you)(you)(you)(you)(you)時地面(mian)(mian)一(yi)(yi)會(hui)兒就(jiu)有(you)(you)(you)(you)(you)幾滴(di)，是(shi)不(bu)(bu)是(shi)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)路(lu)上有(you)(you)(you)(you)(you)地方(fang)泄漏(lou)？ 一(yi)(yi)般(ban)來說在正常(chang)使用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)過(guo)程(cheng)中(zhong)(zhong)，水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)路(lu)是(shi)不(bu)(bu)會(hui)有(you)(you)(you)(you)(you)泄漏(lou)的(de)(de)(de)(de)(de)。在環境溫度(du)比(bi)較高空氣(qi)中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)相對濕度(du)又太大時，在水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)循(xun)環的(de)(de)(de)(de)(de)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)路(lu)中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)泵、水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)管接(jie)頭(tou)、外接(jie)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)管處容易(yi)凝(ning)結露(lu)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)，累積多了(le)(le)以(yi)(yi)后就(jiu)滴(di)到地面(mian)(mian)上了(le)(le)，不(bu)(bu)用(yong)(yong)擔心是(shi)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)路(lu)中(zhong)(zhong)有(you)(you)(you)(you)(you)漏(lou)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)的(de)(de)(de)(de)(de)地方(fang)。如果您對這(zhe)(zhe)(zhe)(zhe)很介意的(de)(de)(de)(de)(de)話(hua)，打開空調(diao)降低房間溫度(du)或是(shi)除濕都可(ke)以(yi)(yi)避免露(lu)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)的(de)(de)(de)(de)(de)產生。
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